1 氣相沉積法

氣相沉積法包括化學氣相沉積法（CVD法）和物理氣相沉積法（PV D法）％ CVD法是一種用于生產(chǎn)高質(zhì)量、高性能的固體材料的化學方法，通常應用于半導體領域的薄膜制造。PVD法是一種真空沉積法，可以用來制作薄膜和涂層。PVD法中，材料經(jīng)歷了凝聚態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)，然后再轉(zhuǎn)變?yōu)槟蹜B(tài)薄膜的變化過程。PVD法最常用到的處理方法是濺射和蒸發(fā)。PVD法常用于制造具有力學、光學、化學或電學性能的薄膜J] %

1.2高溫固相合成法

高溫固相合成是一種在高溫(1000 # 1500℃)下，通過固體界面之間的接觸、反應、成核和晶體生長反應生成大量的復合氧化物的方法。高溫固相合成是制備硅/碳負極材料的一種常用方法，為了防止惰性相硅/碳的生成，反應溫度通常控制在1 200 C [15]。

在反應過程中，升溫速率、反應前驅(qū)物的選擇和反應溫度將直接影響材料的結(jié)構(gòu)和性能。高溫固相合成技術(shù)因工藝簡單，工藝參數(shù)易于控制，重現(xiàn)性好而被廣泛應用。

1.3 機械合金化法

機械合金化是一種固態(tài)粉末加工技術(shù)，是通過采用重復冷焊、壓裂和在高能球磨機中重新焊接混合粉末粒子，得到均勻材料的一種方法，已被證明能夠從混合元素或預合金粉末中合成各種平衡和非平衡合金相*6] % 與高溫固相合成法相反，機械合金化法制備的材料通常具有更小的粒度，更大的比表面積和更均勻的組織*17] %1.4 靜電紡絲法靜電紡絲技術(shù)融合了電噴涂和傳統(tǒng)的溶液干法紡絲纖維的優(yōu)點*8]，纖維直徑一般為幾百納米。靜電紡絲過程不需要使用化學凝固或高溫從溶液中產(chǎn)生紡絲，這使得該工藝特別適用于生產(chǎn)大而復雜的微粒纖維[19:20] % 靜電紡絲法可利用各種材料制備納米纖維，是一種低成本、工藝簡單的通用方法。同軸靜電紡絲法是一種改進的靜電紡絲技術(shù)，可制備納米管和核殼結(jié)構(gòu)納米纖維。